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DSX1000顯微鏡超景深技術的多場景應用探索

產品簡介

DSX1000顯微鏡超景深技術的多場景應用探索
奧林巴斯DSX1000超景深數碼顯微鏡以模塊化設計為核心,集成17種物鏡(含長工作距離與高數值孔徑型號),覆蓋20-7000倍放大范圍。

產品型號:
更新時間:2025-10-23
廠商性質:代理商
訪問量:142
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DSX1000顯微鏡超景深技術的多場景應用探索

產品細節與性能

奧林巴斯DSX1000超景深數碼顯微鏡以模塊化設計為核心,集成17種物鏡(含長工作距離與高數值孔徑型號),覆蓋20-7000倍放大范圍。其電動變焦光路支持無縫切換宏觀至微觀觀察,配合±90°可旋轉頭部與載物臺,可對晶圓、汽車部件等復雜形狀樣品實現多角度無角檢測。遠心光學系統確保全放大范圍內圖像失真低于0.1%,XY軸測量重復性達±0.5μm,滿足半導體行業對晶圓缺陷定位的嚴苛需求。

DSX1000顯微鏡超景深技術的多場景應用探索

用材與工藝

機身采用航空級鋁合金框架,有效隔離外部振動;光學部件選用氟化鈣(CaF?)鍍膜鏡片,透光率提升至98.5%,配合235萬像素彩色CMOS傳感器(1/1.2英寸),在7000倍放大下仍可保持60fps實時成像。載物臺承重達5kg,支持100mm×100mm電動行程與±20°旋轉,適配大型機械零件檢測場景。

參數表與型號

參數項規格
放大倍率20-7000X(依賴物鏡配置)
物鏡數量17種(含0.35mm-66.1mm工作距離)
照明方式LED環形光/同軸落射光/透射光
觀察方法明場/暗場/MIX/偏光/DIC/微分干涉
圖像輸出2D高清圖/3D模型/測量數據
典型型號DSX1000-SZH(標準型)

DSX1000-UZH(通用型,含3CMOS模式)

用途與案例

在半導體制造中,DSX1000通過MIX照明模式可同時捕捉晶圓表面劃痕與內部層間缺陷;汽車行業利用其長工作距離物鏡檢測發動機缸體毛刺,避免傳統顯微鏡碰撞風險;材料科學領域則通過3D重建功能分析金屬疲勞裂紋擴展路徑,為材料改性提供數據支持。

使用說明

  1. 樣品固定:使用磁性夾具固定金屬樣品,避免振動干擾;

  2. 參數預設:通過“PERCiV for DSX1000"軟件加載半導體檢測模板,自動匹配照明強度與對比度;

  3. 多角度采集:旋轉載物臺至45°角,切換至偏光模式觀察應力分布;

  4. 數據分析:導出3D模型至SolidWorks,進行逆向工程仿真。

DSX1000顯微鏡超景深技術的多場景應用探索





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