在半導體芯片制造車間，工程師正用一臺儀器掃描晶圓表面，屏幕上的三維形貌圖以納米級精度還原出微觀結構——這便是白光干涉儀，憑借其非接觸、高精度的測量能力，成為精密制造領域的“微觀顯微鏡”。

　　一、原理揭秘：短相干光解鎖納米級分辨率

　　白光干涉儀的核心在于利用白光寬光譜產生的短相干特性。白光由400-700nm連續光譜組成，相干長度僅2-3微米，當參考光與測量光的光程差接近零時，才會產生高對比度干涉條紋。通過壓電陶瓷驅動參考鏡進行垂直掃描，系統記錄每個像素點光強隨時間的變化曲線，利用包絡檢測或相位解調算法提取高度信息，最終實現0.1nm垂直分辨率與微米級橫向分辨率的三維形貌重建。

　　二、四大核心應用場景

　　1.半導體制造：在光刻工藝后檢測光刻膠厚度與表面平整度，刻蝕工藝后測量刻蝕深度與粗糙度。某案例中，儀器可精準捕捉10μm深溝槽底部0.2nmRMS的粗糙度變化，為芯片性能提供關鍵數據。

　　2.精密光學加工：檢測非球面透鏡面形誤差，某直徑50mm拋物面鏡測量中，PV值精度優于λ/20（λ=632.8nm），助力光學鏡頭成像質量提升。

　　3.生物醫學工程：測量人工關節表面拋光質量，某鈦合金髖關節球頭拋光后Ra值從50nm降至5nm；改良型系統可實現活體眼角膜8μm精度的三維重建，為眼科手術提供導航。

　　4.材料科學研究：分析納米材料表面形貌、薄膜涂層厚度均勻性，甚至化工材料液滴形貌隨濃度變化的動態過程，為新材料研發提供微觀視角。

　　三、技術前沿：智能化與便攜化突破

　　當前，白光干涉儀正朝著更智能、更高效的方向演進。多波長干涉技術將測量范圍擴展至1mm，高速掃描系統基于MEMS振鏡實現100fps的掃描速度，AI輔助分析系統通過深度學習算法自動識別缺陷類型。國內中科院長光所研發的在線式檢測系統已實現±2nm重復性精度，標志著該技術國產化取得重要突破。

　　從半導體晶圓到人工關節，從納米材料到航空航天部件，白光干涉儀正以納米級的“火眼金睛”，持續推動精密制造與微觀科學研究邁向新高度。